8月5日,中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告,预算金额800万元。
项目编号:oitc-g200331121
项目名称:中国科学院半导体研究所厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目
预算金额:800.0 万元(人民币)
最高限价(如有):800.0 万元(人民币)
采购需求:
来源:仪器信息网
以上是网络信息转载,信息真实性自行斟酌。
8月5日,中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告,预算金额800万元。
项目编号:oitc-g200331121
项目名称:中国科学院半导体研究所厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目
预算金额:800.0 万元(人民币)
最高限价(如有):800.0 万元(人民币)
采购需求:
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2025-09-10 08:573660
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