veeco推出turbodisc® k465i™ ，一款用于生产高亮度led（hb led）的氮化镓(gan) 金属有机化学气相沉淀(mocvd)设备，日前经过led产业内的veeco 用户试用后， k465i 很快获得量产认可，该公司已经接到了亚太区域多个led 用户的订单。

veeco指出，这次的新产品turbodisc k465i 以veeco 久经考验的k 家族平台为基础，结合业界最高生产效率，在5nm bin误差范围内，同级最优led的良品率接近90% ，大幅提高中bin率。 turbodisc k465i 采用完全自动化运作，例行维护后在很短的时间内即可继续生产动作，增加生产效率。在同类产品竞争中，不仅生产效率最高，还能节约大量成本。

turbodisc k465i 设计：均匀性和可重复性

turbodisc k465i gan mocvd 系统装置的核心，是veeco正在申请专利的uniform flowflange 技术。它的设计是用来产生能均匀地流过led外延片的烷基和氢化物气体的均匀气流型态，该设备打造出来的led芯片可获得卓越的均匀性和可重复性，k465 i也采用了veeco 最先进的反应炉技术。 flowflange 的简化设计提供了快速制程优化的轻松除错功能，适用外延片大小达8 英寸，同时该设备维护后的快速复产能力也保证了led产业界最高的生产效率。

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