4月24日晚间消息，日本尼康 （nikon） 宣布在荷兰、德国与日本针对 asml（艾司摩尔） 和合作伙伴卡尔蔡司 （carl zeiss ag）的专利侵权提起诉讼，并表示 asml 及 carl zeiss 两家公司在未经 nikon 的许可下将其微影 （lithography） 技术专利用于光刻机上，并运用在半导体制造业中。尼康在诉讼文件中称，要求 asml 和 carl zeiss ag 对未授权使用专利技术而做出赔偿。
尼康曾在半导体设备产业叱咤一时，是全球第八大半导体设备厂商。据尼康公布的2017财年第三季度财报（2016年4月1日——12月31日）显示，营业利润下降了41%，尼康净利润亏损0.5亿元人民币，而上年同期盈利还高达11亿人民币。
asml 发布声明表示，尚未就此法律行动收到通知，断然否认任何侵权指控。asml 认为 nikon 的指控缺乏依据，将考虑采取所有方案，坚定地维护权益。
对此，asml 总裁兼ceo彼得·温尼克（peter wennink）称：“尼康的诉讼毫无依据，没有必要，为半导体市场制造了不确定性。”温尼克还称，阿斯麦曾多次试图与尼康谈判，希望能对当前的一份交叉授权协议进行延期。
根据 asml 的年度报告和 20-f 表格里的披露讯息，asml 和 nikon 在 2004 年签订了一项专利交叉授权协议，部分专利已获永久授权，其他专利的授权日期已于 2009年12月31日结束，双方同意互不采取法律行动的过渡期亦于2014年12月31日结束。
nikon 则表示，法律诉讼是在由美国退休法官于 2016 年底进行的调解未成之后所决定发起的。而根据 nikon 的说法，提起诉讼的 3 项微影技术专利，asml 和 carl zeiss 两家公司分别在 2004 年支付 nikon 8,700万 美元和 5,800 万美元的授权金。授权期限在 2009 年到期，而 2014 年底其专利权的过渡期也到期之后，双方在 2016 年底经过调解协商延长交叉许可协议未成。
当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而 asml 又主导着半导体光刻机市场。据评级机构“惠誉评级”（fitch ratings）今年1月发布的调研报告显示，在高端光刻机市场，asml 的份额高达90%。而 asml 公布的 2017 年第 1 季财报显示，第 1 季营收净利达 19.4 亿欧元，毛利率为 47.6%，且预估第 2 季营收净利在 19 到 20 亿欧元之间，毛利率约为 43% 到 44%。
尼康曾是日本半导体制造技术的代表厂商，1993 年尼康的半导体曝光设备全球市占率达 48.4%，几乎在市场称王。1984 年设立的 asml，在创建初期远远不及尼康。然而尼康好景不常，至 2000 年左右，asml 市占率开始快速攀升，最后不仅超越尼康，2015 年全球市占率高达 81%，尼康只剩 12.1%。
尼康与 asml 的差距在哪里？从技术面来说，asml 采取开放的技术制度，积极与外部研究机关或部门企业携手，共同寻求革新。尼康则贯彻“黑盒子（black box）”路线，产品一律由自家研发，自家制造。
尼康的高端半导体曝光设备单价高达 50 亿日圆，只要比预期少卖 1 台，都会对业绩带来极大影响。在2014 会计年度，尼康预估高端半导体设备“arf”可卖 18 台，但全年只卖出 5 台，显示该企业的设备产品似乎乏人问津。
来源： 集微网
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