（30）日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布推出prismo hit3™ mocvd设备，主要用于深紫外led量产。
据介绍，中微prismo系列mocvd设备目前已进入全球大多数领先的蓝绿光led制造商，此次推出的prismo hit3™ 是中微prismo系列mocvd设备的最新产品。该设备是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备，反应腔最高温度可达1400度，具有优异的工艺重复性、均匀性和低缺陷率。该设备同时也为高产量而设计，单炉可生长18片2英寸外延晶片，并可延伸到生长4英寸晶片。
此外，该设备具有新颖的腔体设计，能在高温环境下生长高质量氮化铝工艺，并具有业内领先的深紫外led高产出率；同时具备较长的平均免开腔维护间隔时间，进一步延长正常运行时间并提高产能。真空自动化传输系统可以抑制颗粒物的产生，并减少缺陷。自动化升降机构可方便维护操作并有效节省维护时间。
中微公司表示，prismo hit3™ mocvd设备早期的客户包括国内领先的深紫外led制造商马鞍山杰生半导体有限公司，该公司的深紫外led在家用、医疗和科研设备等领域有广泛应用。
来源：中微半导体设备
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