近日，北方华创正式发布新品——12英寸电容耦合等离子体介质刻蚀机accura lx，该机台主要覆盖逻辑领域多个技术节点中以aio (双大马士革刻蚀工艺)、contact (接触孔)为代表的关键介质刻蚀制程，并可扩展到存储领域的cmos (互补金属氧化物半导体)相关制程，适用于low-k(低介电常数)介质及常规介质材料的刻蚀工艺。

刻蚀机作为半导体制造产业链中的关键技术装备，其发展水平直接影响着集成电路的微细化程度、性能提升与良率控制，是推动半导体产业实现高质量发展的核心驱动力。随着国内逻辑芯片产能扩充，业内对12英寸关键制程介质刻蚀机的需求量增加，同时国内存储芯片技术不断进步及产能持续扩充，也将带动相当数量的cmos关键制程介质刻蚀机需求。

为推动半导体产业高质量发展，北方华创组建专业研发团队开发面向关键制程的12英寸介质刻蚀机accura lx，其工艺性能已优于当前行业指标：通过continue plasma (连续等离子体)设定及传送流程优化，可在保证产品良率的同时实现更高产能;通过shower head (进气硅电极) 高密度开孔率设计，可实现优异的产品均匀性及降低设备fatal arcing(致命性打火)风险;此外，机台搭配多种形式的射频脉冲功能，实现了对mask (掩膜)及stop layer (停止层)的高选择比，并减少器件损伤;采用的多区气源流量控制及温度调节设计，可实现微区域的精准化调节，满足客户定制化需求。accura lx设备优异的性能已得到多个客户的青睐，目前已经完成多项工艺验证。

accura lx设备作为北方华创推出的12英寸双大马士革ccp(电容耦合等离子体)介质刻蚀产品，为北方华创开拓了一个全新的产品市场领域，能够与现有的12英寸硅、金属刻蚀机形成完整的刻蚀工艺解决方案。同时，accura lx所搭建的12英寸ccp刻蚀机硬件架构和技术平台，可以用于存储、cis (互补金属氧化物半导体图像传感器)、power(功率半导体)等多个领域，应用前景广阔。

未来，北方华创将依托深厚的技术积累和研发能力，持续深耕介质刻蚀领域设备市场，不断创新和优化介质刻蚀设备性能，推动集成电路制造的精度、良率和产能提升，进而满足新一代信息技术产品对高性能芯片的迫切需求，推动产业进步，创造无限可能。

（来源：北方华创）

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